プログラム概要 - EIDEC
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プログラム概要

EUVマスクブランク検査技術プログラム

EUVマスクの材料となるマスクブランクの品質を保証するための研究を行い、EUV光を用いたマスクブランク欠陥検査装置の開発を行います。

EUVマスクパタン検査技術プログラム

EUVマスク上に形成されたパターンの品質を保証するための研究を行い、電子線を用いた欠陥検査装置の開発を行います。

EUVレジストアウトガスコントロールプログラム

EUVリソグラフィにおける主要課題の1つである、レジストが露光された際に真空露光チャンバー内に発生する ガス(アウトガス)が引き起こす、さまざまな問題を回避するための研究を行います。

EUVレジスト材料研究プログラム

16nm~11nmレベルの解像性能を有するEUV材料とレジストプロセスの開発を行います。

DSA研究プログラム

16nm~11nmレベルの解像性能を有するEUVリソグラフィにDSA(自己組織化)技術を組み合わせることにより、サブ10nmレベルの解像性能を実現するDSA技術の研究を行います。