EUVマスクパタン品質保証プログラム - EIDEC
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Patterned Mask Inspection Technology Program

EUVマスクパタン品質保証プログラム

EUVマスク上に形成された、焼き付けのためのLSIパタンの品質を保証するための研究を実施します。 EUV露光が実用化される世代でのLSIの線幅は、これまで広くマスクパタンの確認に使用されてきたDUV(紫外線)の波長よりもはるかに小さくなってくるため、DUVに代わる新しいプローブを用いた欠陥検査技術の実現が必要となります。 本プログラムでは、解像度の高い電子線をプローブとして用い、電子線検査で問題とされているスループットを新しい電子線光学系を採用することにより改善する欠陥検査装置を開発するとともに、線幅11nm世代に要求されるマスクパタンの品質仕様を明らかすることをプログラムの目標としています。

EUVマスクパタン品質保証プログラム