EUVレジスト材料研究プログラム - EIDEC
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EUV Resist Material Research

EUVレジスト材料研究プログラム

11nmレベルの解像性能を有するEUVレジスト材料とレジストプロセスの研究を行います。解像度、ラインエッジラフネス、感度の3つの要求性能を同時に満たすレジスト材料を、既存材料を基盤にした研究に加え、新規材料を積極的に取り入れることによって研究します。また基礎的な研究として、レジストパターン形成の反応機構を解析し、その結果を材料研究にフィードバックすることにより、高性能な材料の実現を目指します。さらに、新規なレジストプロセスの研究を行い、レジスト材料との組合せにより高精度なレジストプロセスの構築を計画しています。これらの研究を通じて、EUVリソグラフィの実用化ならびにデバイスの量産化に貢献します。

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