DSA研究プログラム - EIDEC
HOME > 共同研究プログラム > Blank Inspection Technology Program

DSA Research Program

DSA研究プログラム

11nmレベルの解像性能を有するEUVリソグラフィにDSA(自己組織化)技術を組み合わせることにより、サブ10nmレベルの解像性能を実現するDSA技術の研究を行います。本プログラムでは、サブ10nmレベルのパターニングに必要な性能を満たすDSA材料・プロセスの開発と同時に、DSA材料・プロセスの挙動を正確に再現できる、高速かつ高精度なシミュレーターの開発を進めます。さらに、検査・計測技術開発として、3次元構造解析の研究を行い、その結果をDSA材料・プロセス開発およびシミュレーター開発と相互補完することにより、効率的にサブ10nmレベルのDSA技術の実用化を目指します。