EUVマスクブランク検査技術プログラム - EIDEC
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Blank Inspection Technology Program

EUVマスクブランク検査技術プログラム

EUV光を使ったLSIパタンの露光焼き付けを実現するためには、焼き付け原版となるEUVマスクの品質を高いレベルで保証することが必要となります。 特に、マスクブランクにEUV露光に影響をおよぼす欠陥がないことは、マスク品質保証の大前提となります。 本プログラムでは、ブランクの位相欠陥の検出においてMIRAI-Seleteが世界で初めてその有用性を実証したEUV光を用いたマスクブランク欠陥検査装置の研究成果を受け、線幅11nm世代での実用を目標に、マスクブランクの品質を保証するために必要不可欠なEUV光波長を用いるマスクブランク欠陥検査装置の開発を行うとともに、マスクブランクに要求される品質仕様を明らかにすることを研究のテーマとしています。

EUVマスクブランク検査技術プログラム
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